Nella produzione fotovoltaica, la pulizia dei wafer ha un impatto diretto sul successivo rivestimento e sulle prestazioni elettriche. Le architetture tradizionali basate principalmente su I/O locali spesso faticano quando sono necessari più punti di monitoraggio, diagnostica remota o ottimizzazione del processo.

In un progetto, un sistema di pulizia dei wafer ha adottato un PLC Omron più una soluzione I/O remota RB. La configurazione di 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO, 1×AI e 1×AO consente il monitoraggio e il controllo centralizzati dello stato della macchina, della pressione dell'acqua e della concentrazione chimica.

Gli ingressi e le uscite digitali monitorano azionamenti, porte di sicurezza, livelli e allarmi. I canali analogici leggono segnali di pressione, flusso o concentrazione, mentre le uscite analogiche controllano valvole e pompe per mantenere il processo di pulizia all'interno di una finestra operativa definita.

Con l'I/O remoto RB, il produttore di apparecchiature può:

• Consolidare sensori e attuatori sparsi per la macchina in stazioni remote unificate;

• Riservare capacità I/O per futuri punti di monitoraggio o ottimizzazione delle ricette senza importanti ricablaggi;

• Fornire dati a sistemi di livello superiore per l'analisi delle tendenze e l'indagine sulle cause principali, migliorando la coerenza della pulizia.

Ciò consente ai produttori di PV di aggiornare le loro sezioni di pulizia dei wafer a una modalità più basata sui dati senza cambiare la loro piattaforma PLC principale.